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這臺場發射掃描電鏡竟然可以放在桌面上?

 更新時間:2022-02-17 點擊量:1757

 Phenom Pharos G2:可以放在桌子上的場發射掃描電鏡 

 

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先進的技術不斷推動科學進步,推動我們對基本原理和基礎科學理解的邊界。

 

但是科學進步也會受到觀察能力的限制,顯微技術的發展和改進是當今社會技術和知識增長的基石。不斷創新、不斷突破顯微技術的邊界是飛納電鏡的責任與使命。

 

全新設計的電子光路、場發射燈絲,革命性的震動免疫與磁場隔離、穩定的真空系統,將臺式掃描電鏡的分辨率突破到 1.8 nm 以內,同時不受安裝樓層、震動、磁場的限制。全自動的 15 秒抽真空系統,使得用戶可以在 1 分鐘內獲取材料的形貌和成分信息。

 

高分辨

15 秒抽真空

1 分鐘場發射 SEM 成像

1 秒能譜 Mapping

低加速電壓

不噴金直接觀測高真空二次電子像

豐富的拓展功能

人人都可操作

可放置任意樓層

 

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高速度和高分辨的理想搭配

 

材料研究的老師說:我理解的利器應該是具有*的分辨率,那臺式的場發射也可以稱得上科研利器嗎?

 

第二代飛納臺式場發射掃描電鏡 Phenom Pharos G2 重新定義了臺式電鏡的設備性能和操作速度,能譜和掃描電鏡圖像軟件高度集成,界面友好,不同經驗級別的用戶都可以在 1 分鐘內獲得高分辨率的 SEM 圖像,1s 便可獲得能譜 Mapping 結果。飛納的臺式場發射分辨率優于 1.8nm,實測結果可達1.2nm,輕松觀測納米級別材料。

 

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金顆粒 - 分辨率實測 1.2 nm

 

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1 分鐘出場發射 SEM 圖

 

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1s 獲得能譜 Mapping 結果

 

“軟"樣品成像*

 

電池隔離膜材料研發人員說:我非常擔心較高的加速電壓會對我的樣品造成損壞,但是通常較低的加速電壓下又無法獲得好的照片,我很困擾。

 

第二代飛納臺式場發射電鏡,電子束能量范圍大,在低加速電壓下仍然體現出較高的性能,無需繁瑣的樣品制備,即可直接對絕緣材料和電子束敏感材料進行成像,也不會損壞樣品或者掩蓋樣品納米級的特征。比如用于水凈化的沸石,藥片,膠囊粉末以及以尼龍、聚酯、氨綸和芳綸為原料的聚合物纖維等,這些樣品如果使用高能量的電子束進行成像,將會受到明顯損傷,因此需要使用低能量電子束進行成像。Phenom Pharos G2 臺式場發射掃描電鏡低至 1kV,仍具有*的成像功能。

 

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絕緣樣品 - 5kV - SE 充電嚴重

 

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絕緣樣品 - 1kV - SE 充電消失

 

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電子束敏感樣品 - 20kV - 樣品損傷嚴重

 

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電子束敏感樣品 - 1kV - 樣品不受損傷

 

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植物組織切片

 

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成神經細胞瘤組織切片 92,000x

 

豐富的拓展功能

 

做粉末冶金的客戶說:我認為理想的掃描電鏡,不僅只做形貌的觀察和成分的分析,還能快速準確地幫助我們做大量顆粒的統計分析,這樣才能為我們解決實際問題,提升我們的工作效率。

 

第二代臺式場發射具有 5 大豐富的拓展功能,其中之一的顆粒統計分析系統,便可以自動測量統計顆粒的大小、形狀及數量。

 

拓展功能 1:顆粒統計分析系統

 

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· 自動并統計分析顆粒的大小、形狀、數量等

· 探測速度快:高達 1000 個 / 分鐘

· 可測量顆粒尺寸范圍:0.1μm-100μm

· 輸出詳細數據:圓度、縱橫比、凹凸度等

· 可選配 Nebula 干粉分散器

 

拓展功能 2:3D 粗糙度重建系統

 

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· 基于“陰影顯形"技術,進行實時三維重建

· 無需樣品傾斜

· 自動進行粗糙度測量(平均粗糙度 Ra 和粗糙高 Rz 等)

· 可輸出 3D 曲線,2D / 3D 圖像,CSV 等信息

 

拓展功能 3:自動全景圖像拼合

 

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· 無需干預,全自動采集圖片

· 高分辨和高精度縫合算法:電鏡下圖像連接無波動

· 全域超景深形式展現完整樣品圖像

· 超大視野:最大可達 100mm

 

拓展功能 4:纖維統計分析測量系統

 

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· 全自動批量化處理,消除人為誤差

· 可觀測納米纖維,獲取豐富的數據結果

· 可輸出纖維直徑分布、纖維方向、濾膜孔徑等數據

· 統計方法可追溯,精確到每一根纖維

 

拓展功能 5:孔徑統計分析測量系統

 

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· 全自動測量并統計分析孔徑大小、形狀、數量等

· 孔徑詳細數據:長寬比、圓當量直徑、長短軸等

· 輸出孔徑分布、孔隙率等詳細數據結果

· 統計方法可追溯,精確到每一個孔徑

 

臺式設計:占地小,靈活性高,操作簡單

 

一位課題組的老師說:我們課題組近幾年發展迅速,人員不斷壯大,需要做掃描電鏡表征的人數越來越多,我們計劃再買一臺供學生使用,但是我們實驗室的空間有限,并且在 10 樓,沒有辦法騰出專門的房間來放置。

 

傳統的透射掃描電鏡體積龐大,需要一間專門放置設備的房間。且對放置的環境有嚴格的要求,需要專門的防磁、防震裝置,通常建議放置在 1 樓。

 

Phenom Pharos G2 實現了將場發射掃描電鏡體積縮小了 80 %,直接放置到一張桌子上。內置磁屏蔽和減震系統,對放置環境無嚴格需求,可以根據用戶需求,放置在產線旁,辦公桌,研究室等。

 

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放置于 7 樓的 Phenom Pharos G2

 

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飛納電鏡用戶同濟大學吳一楠老師體驗 Phenom Pharos G2

 

Phenom Pharos G2:應用案例

 

Phenom Pharos G2 廣泛應用于鋰電行業、半導體行業、制藥行業、生命科學以及各種金屬材料等。

 

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鋰電池隔膜材料

 

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半導體芯片外觀檢測

 

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包衣藥丸

 

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電機-金屬材料

 

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珊瑚內表面

 

Phenom Pharos G2:客戶評價

 

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復旦大學 楊振國教授(失效分析專家):“不需要噴金處理,就可以清晰成像,很大程度地提高了失效分析研究的效率,操作比較簡單,課題組的學生們都能快速掌握使用方法,對我們來說幫助很大。"

 

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同濟大學 吳一楠副教授(環境科學與工程學院):“最新一代的臺式場發射,讓我非常驚艷。沒想到科技發展和進步地如此之快,可以使得傳統的落地場發射都可以做到桌面上,并且又比傳統落地電鏡操作要方便很多,對安裝和放置環境也沒有什么特殊要求,真的非常推薦!"

 

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Colin Humphreys(英國劍橋大學教授):“材料科學非常重要,最終將會改變人類的生活。掃描電鏡對材料科學的研究具有重要的意義。傳統電鏡需要非常有經驗的專業人士操作,通常需要長時間的培訓,拍一張圖片也要耗時也很長。而飛納電鏡只需要培訓 15 分鐘即可以上手操作,可以很方便的幾分鐘之內給出樣品的形貌信息和成分信息,給材料科學的研究帶來了非常大的方便。"

 

Phenom Pharos G2:部分用戶

 

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傳真:

郵箱:info@phenom-china.com

地址:上海市閔行區虹橋鎮申濱路 88 號上海虹橋麗寶廣場 T5,705 室

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